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Ce/S共
掺杂
锐钛矿型TiO
采用基于密度泛函理论(DFT)的第一性原理计算了Ce,S单
掺杂
及Ce/S共
掺杂
锐钛矿型二氧化钛(TiO2)的能带结构、态密度和光学性质。结果表明:
掺杂
后晶格常数均变大,禁带宽度均减小,其中Ce/S共
掺杂
后由于S-3p电子轨道和Ce-4f电子轨道的共同作用引入了杂质能级,使得禁带宽度最小,吸收光谱发生红移;此外,Ce具有Ce4+和Ce3+两种可变价态,具有良好的电子迁移性质,阻止了电子和空穴之间的复合,预测了Ce/S共
掺杂
可提高TiO2的光催化性能。
2021-02-07 16:03:27
7.16MB
材料
Ce/S共掺
第一性原
态密度
1
Nd
全固态激光器被动锁模是产生超短脉冲的一种有效方法。在基于Nd3+
掺杂
激光材料被动锁模产生超短脉冲的研究中,无序晶体成为研究的热点。结合相关工作,总结了Nd3+
掺杂
无序晶体被动锁模激光器的研究现状,展望了Nd3+
掺杂
无序晶体在超强超短脉冲制备中的发展前景。
2021-02-06 19:07:23
7.52MB
激光器
Nd3+掺杂
四能级激
准三能级
1
RESURF技术中LDMOS外延层单位面积杂质密度研究
LDMOS器件设计中, 常采用RESURF技术来提高器件的性能。文中主要研究具有RESURF技术结构的LDMOS器件, 围绕当获得最优的器件结构时, 其外延层单位面积杂质密度Ntot不是定值这一现象展开研究, 给出了一种关于外延层单位面积杂质密度Ntot的近似解析表达式。经过大量的模拟仿真及数据分析, 发现在最优器件结构中均匀
掺杂
的外延层单位面积杂质密度Ntot与衬底
掺杂
浓度存在有规律的函数关系。最终, 通过综合分析影响器件的关键因素, 得到了最优器件的外延层单位面积杂质密度Ntot与衬底
掺杂
浓度的关系函数。
2021-01-29 11:13:24
1.11MB
LDMOS;
RESURF;
衬底掺杂浓度;
外延层单位面积杂质密度
1
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