基于铌酸锂光波导中飞秒光参量放大过程中的脉宽变化及各光波的传播三维图matlab源代码
2021-08-10 14:22:03
4KB
1
波导的模式分为两种，一种是把绝大部分能量限制在波导的芯层区域中，波导呈现导波性，这种模式称为导引模式，简称为导模。另一种是光能量不断地辐射到芯区以外的包层中去，波导呈现辐射性，这种模式称为辐射模式，简称为辐射模
2021-07-08 21:50:59
8.03MB
1
许多 III-V 器件需要暴露埋层以形成金属接触或形成台面结构与同一晶片上的相邻器件进行电隔离，因此蚀刻将始终是关键的制造步骤。湿蚀刻是最容易实施的，因为它们只需要简单的台式玻璃器皿（如果涉及 HF，则需要塑料器皿）。在为任何应用选择特定蚀刻工艺时要考虑的关键问题是速率、均匀性、选择性、关键尺寸控制、特征轮廓和表面损伤，这些都会降低电子特性，从而降低器件性能。
2021-06-29 13:04:28
21KB
1
本人课程做的一个PPT，如有需要，自行 下载。
主要内容:
光波导的制备通常需要两个过程：
①光波导薄膜：制作技术主要包括原子掺杂技术，淀积技术，外延生长技术和电光技术。
②光路几何图形的微细加工：技术主要包括化学腐蚀法刻蚀和离子束刻蚀。进行刻蚀的目的：一是规定光的传输方向，让光在通道上有效通过，二是在规定的通道上加工制作不同光波导器件以便对光信号进行调制、分束、开关和探测。
2021-06-02 21:16:39
437KB
1