在当今的电子技术领域中，传感器技术的应用越来越广泛，尤其是在工业自动化、医疗设备、汽车电子、消费电子产品等领域。FSR402薄膜压力传感器作为一种常用的传感设备，广泛应用于需要测量压力变化的场合。而STM32F103C8T6作为一款高性能的ARM Cortex-M3微控制器，具备处理复杂算法和实时任务的能力，是开发高精度、低成本控制系统的理想选择。结合FSR402和STM32F103C8T6，我们可以开发出具有压力检测功能的智能装置。为了将传感器的模拟信号转换为微控制器可以处理的数字信号，需要使用模数转换器（ADC）。此外，为了直观地显示压力强度，开发人员通常会选择使用OLED显示屏，尤其是中文用户界面，这就需要相应的汉字显示库。整个系统开发需要对STM32标准库有深入的理解和应用能力。 在具体的工程实现中，首先需要将FSR402薄膜压力传感器的模拟信号通过ADC采集到STM32F103C8T6微控制器中。然后，通过编程实现对采集数据的处理和分析，以得到准确的压力强度值。处理后的数据需要通过某种方式显示出来，而汉字OLED显示屏则提供了一个良好的平台，不仅可以显示压力强度的数值，还可以显示中文操作界面。为了实现这一功能，需要在微控制器中嵌入汉字OLED显示库，并编写相应的显示代码。 在进行项目开发时，开发人员通常会创建一系列的文件来组织和管理代码，例如 CORE、OBJ、SYSTEM、USER、STM32F10x_FWLib、HARDWARE等。这些文件分别代表了工程的核心代码、对象文件、系统配置文件、用户程序入口、STM32标准外设库文件以及硬件相关配置文件。通过这些文件的协同工作，可以使得整个项目结构清晰、易于维护，同时便于团队协作开发。 在具体的项目开发过程中，开发人员需要充分掌握STM32F103C8T6的硬件资源和库函数编程，同时还需要对FSR402薄膜压力传感器的特性有深入的了解，包括其工作原理、电气参数、输出特性等。此外，对于OLED显示屏的驱动编程也是必不可少的技能。在这些基础上，开发人员可以编写出稳定可靠的压力检测和显示系统。 项目开发的成功与否往往依赖于对各个组件性能的充分挖掘和合理搭配。比如，在硬件层面，需要确保FSR402传感器的量程选择、滤波处理以及模拟信号到数字信号的转换精度符合要求。在软件层面，需要精心编写ADC采集程序，确保数据采集的实时性和准确性。同时，编写汉字显示库以支持OLED显示屏能够清晰地显示压力强度和用户操作界面。 通过综合运用上述技术和组件，可以成功开发出一个集成FSR402薄膜压力传感器信号采集、STM32F103C8T6微控制器处理、ADC采集以及汉字OLED显示压力强度的完整系统。这个系统不仅能够准确测量压力强度，而且能够直观地显示出压力数值，为用户提供友好的人机交互界面，提高产品的使用便利性和用户体验。

有效提高薄膜硅太阳能电池光转换效率是清洁能源利用领域的一个重要问题。设计了一种以三角形一维衍射光栅为基础的薄膜硅太阳能电池的背部反射器结构,用以有效提高硅太阳能电池的光转换效率。利用时域有限差分(FDTD)法,从光栅结构形状、倾斜角度、光栅周期以及光栅间隔等4个方面分别研究了薄膜硅太阳能电池下表面的光反射率。结果表明,由等腰直角三角形组成的一维光栅结构的背反射能力最强,合理增大光栅周期也将有助于提高硅太阳能电池的背面光反射率。此外,研究还发现,对于间隔型一维衍射光栅结构,平面波入射光会在和光栅周期对应的波长处发生共振现象。利用该特性,一维衍射光栅结构还可作为一种波长选择器。

采用离子束溅射法,分别在经过不同前期清洗方法处理过的K9及石英玻璃光学基片上,选择不同的镀膜参量,镀制了多种厚度的Au膜。对镀制的Au膜在真空紫外波段较宽波长范围内的反射率进行了连续测量。测试结果表明：辅助离子源的使用方式、Au膜厚度对反射镜的反射率有重大影响。基片材料、镀前基片表面清洗工艺等对反射率也有一定影响。采用镀前离子轰击,可显著提高Au膜反射率及膜与基底的粘合力;获得最高反射率时的最佳膜厚与基片材料、镀膜工艺密切相关。对经过离子清洗的石英基片,膜厚在30 nm左右反射率最高;比较而言,石英基片可获得更高的反射率;辅助离子源的使用还显著影响获得最高反射率时对应的最佳膜厚值,且对K9基片的影响更显著。

Essential Macleod光学薄膜设计与分析软件PPT Essential Macleod是功能强大且完备的光学薄膜设计与分析软件，能够在Microsoft Windows操作系统下运行。该软件具有真正的多文档操作界面，满足光学镀膜设计中的各种要求。用户可以从头开始设计，也可以优化已有的设计；可以观测在设计生产中的误差，也可以导出薄膜的光学常数。 软件特点： 1. 使用简便：常见的用户界面；广泛的使用剪贴板；高质量曲线；真正的多文档界面； 2. 用户自定义单位：任意定义波长、频率、厚度、时间的单位； 3. 逆向工程：n、k值导出；非均匀性和吸收，堆砌密度的变化；固定缩放比例；灵活的限制性优化。 性能计算： 1. 反射系数；透射系数；反射相位；透射相位；密度；偏振角，偏振相位；群时延；群时延色散；三价色散； 2. 颜色：在Tristimulus、Chromaticity、CIE L*a*b*、CIE L*u*v*、Hunter Lab系统下计算。用户可定义的光源；用户可定义的观测； 3. 材料：提供标准的材料数据库；多数据库，如：不同的温度、镀膜机、不同的项目、不同的客户、不同的系统；材料数据容易输入；数据图标显示；强大的编辑器。 设计工具： 1. 膜层逆转、材料替换、公式设计、膜厚缩放比例、匹配的角度，不邻近膜层的剪切、拷贝和粘贴。 2. 透射滤光器设计、非极性化边缘滤光器和平衡膜层（Herpin）参数的计算。 分析工具： 1. 导纳图表；反射系数图表；绝对电场幅度图；非极化边缘滤波片设计工具；对称平衡层（Herpin）计算。 优化： 1. Optimac法；Simplex法；模拟退火法； 2. 目标：对包括颜色的所有的参数确定目标清单；从外部源输入目标数据；链接。 合成： 1. Optimac技术也可以在合成模块里操作，为了达到需要的规格在设计时它可以增加或者移走膜层。 2. 合成也可用于改善现有的设计，或者从一个材料清单和规格里产生设计。 Essential Macleod是功能强大且完备的光学薄膜设计与分析软件，能够满足光学镀膜设计中的各种要求。该软件提供了多样化的工具支持设计过程，强大的分析和设计功能，使用户能够轻松地设计和优化光学薄膜。

给出了螺旋型手性分子薄膜表面反射方向的圆二向色性的谐波强度表示式,分析了谐波的强度与手性分子的取向、分子的螺距和半径等结构参数的关系,给出了数值模拟结果.发现在入射光强一定的情况下,谐波强度在螺距和半径的取值范围内分别存在着最大值,以及螺距与半径之间满足的关系式随分子取向角的变化而不同.

局域结构畸变对Co2FeAl0.5Si0.5合金薄膜中磁有序的影响，叶双莉，翟敏，本文通过磁控溅射与原位真空退火，制备了一系列的Heusler合金Co2FeAl0.5Si0.5 (CFAS)，退火温度分别为350oC, 450oC, 550o和 650oC。利用XRD, 变温拉�

绒面ZnO透明导电薄膜，朱锋，薛玉明，采用孪生ZnO (Al2O3:2%)对靶直流磁控溅射制备高透过率、高电导率的平面ZnO薄膜（迁移率为5.56 cm2/V•s，载流子浓度为4.57×1020cm-3，电阻�

射频磁控共溅射制备Li-La-Ti-Zr-O薄膜电解质，农剑，徐华蕊，以Li0.33La0.56TiO3（LLTO）与Li7La3Zr2O12（LLZO）粉末靶材为溅射源，用射频磁控共溅射的方法制备Li-La-Ti-Zr-O薄膜电解质。在室温条件下，其离�

采用电泳沉积法在Ti片上制备TiN薄膜,在450℃下保温60min制备N掺杂TiO2薄膜（N-TiO2薄膜）,然后在不同浓度的AgNO3溶液中利用光还原沉积法制备负载Ag的N-TiO2薄膜。利用X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）和紫外-可见吸收光谱（UV-Vis）对薄膜进行表征,通过测试瞬态光电流密度研究薄膜的光电性能,并以罗丹明B为降解目标物评价薄膜的光催化活性,重点研究了负载Ag对N-TiO2薄膜光电和光催化性能的影响规律。结果表明:AgNO3溶液浓度为0.05mol·L-1时,Ag的负载量最为适宜,N-TiO2薄膜的光电及光催化性能最佳;负载Ag的N-TiO2薄膜在可见光下的瞬态光电流密度约为N-TiO2薄膜的5.4倍;负载Ag显著提高了N-TiO2薄膜的光催化性能,经过可见光照射180min后,薄膜对罗丹明B的降解率达到98%。

异质界面对Ca(Mg1/3Nb2/3)O3/CaTiO3叠层介质薄膜结构和性能的影响，刘存金，周静，采用叠层方式制备出一定厚度的Ca(Mg1/3Nb2/3)O3/CaTiO3（CMN/CT）异质薄膜，研究叠层排布方式及异质界面个数对薄膜微观结构、形貌及介电性�