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44. 医用膜分离制氧机

NMOS的掩膜和典型工艺流程 * Mask 确定对象 工艺流程 出发点 P型掺杂硅晶圆(=75-200mm)，生长1m厚氧化层, 涂感光胶 (Photoresist) 1 有源区 紫外曝光使透光处光胶聚合, 去除未聚合处(有源区)光胶, 刻蚀(eching)氧化层, 薄氧化层(thinox)形成, 沉淀多晶硅层, 涂感光胶 2 离子注入区 曝光, 除未聚合光胶, 耗尽型NMOS有源区离子注入, 沉淀多晶硅层, 涂感光胶 3 多晶硅线条图形 曝光, 除未聚合光胶, 多晶硅刻蚀, 去除无多晶硅覆盖的薄氧化层，以多晶硅为掩膜进行n扩散，漏源区相对于栅结构自对准，再生长厚氧化层, 涂感光胶 4 接触孔窗口(Contacts cut) 曝光, 除未聚合光胶, 接触孔刻蚀, 淀积金属层, 涂感光胶 5 金属层线条图形 曝光, 除未聚合光胶, 金属层刻蚀, 钝化玻璃层形成, 涂感光胶 6 焊盘窗口(Bonding pads) 曝光, 除未聚合光胶, 钝化玻璃层刻蚀

产品型号：VK3601 产品品牌：VINKA/永嘉微电/永嘉微 封装形式：SOT23-6 产品年份：新年份 联 系 人：许硕 深圳市永嘉微电科技有限公司，原厂直销，原装现货更有优势！工程服务，技术支持，让您的生产高枕无忧！ 量大价优，保证原装正品。您有量，我有价！QT417 1. 概述 VK3601 是一款单触摸通道带1个逻辑控制输出的电容式触摸芯片。具有如下功能特点和优势：  可通过触摸实现各种逻辑功能控制。操作简单、方便实用。  可在有介质（如玻璃、亚克力、塑料、陶瓷等）隔离保护的情况下实现触摸功能，安全性高。  应用电压范围宽，可在 2.4~5.5V 之间任意选择。  应用电路简单，外围器件少，加工方便，成本低。  低待机工作电流（没有负载） @VDD=3.3V，典型值 4uA，最大值 8uA。 @VDD=5.0V，典型值 8uA，最大值 16uA  专用管脚接外部电容（1nF-47nF）调灵敏度  抗电源干扰及手机干扰特性好。EFT 可以达到±2KV 以上；近距离、多角度手机干扰情况下， 触摸响应

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为了更好地理解入耳蜗的工作机制，提出了一种利用Gammatone滤波器组对基底膜进行仿真的方法。根据 Gammatone滤波器组与人耳基底膜两者在冲激响应、幅频特性等方面的相似性，采用一组中心频率呈对数均匀分布的 Gammatone滤波器组来模拟基底膜。采用多种信号作为输入，对该方法进行仿真测试。仿真结果表明：在纯音、混合音和语音等输入情况下，该方法能仿真人耳基底膜的动态响应过程、频率选择特性和频谱分析特性等重要特征，对于语音压缩、语音识别和人工耳蜗等听觉应用领域有参考价值。

自己搭的一个永磁同步电机双闭环滑膜控制（转速环是SMC），电流环为PI，Id=0控制，还有一些参考论文

利用xml文件产生mask.tif，可指定产生的mask。安装multiresolutionimageinterface时略有困难