用于可见光或红外图像增强算法

vb图像处理 边缘增强 低通滤波 彩色增强 掩模匹配法 彩色变换 二值化 边缘增强 图象平滑处理 灰度拉伸 直方图

行业分类-设备装置-一种蜡纸掩模及其制备方法.zip

近年来，由于受各种环境及人为因素的影响，壁画在一定程度上受到了破坏。为了使人们欣.赏到原作的风貌，并对其进行研究和开发，还原壁画的原有样貌，提出了一种针对褪色及划痕的壁画修复.算法。该算法在 Ｌαβ空间的基础上，首次提出使用颜色聚类及掩模算法对受损壁画的破损区域进行分割.提取，然后针对 ＦＭＭ 算法中传输方向并没有完全覆盖要修复的区域的缺陷，提出了利用梯度直方图的一.些特性对其传输方向进行优化。实验表明，该算法对于破损的壁画修复有很好的效果。

Linux/操作系统： 视窗： 文档： PICwriter 自述文件 Picwriter（Photonic-Integrated-Circuit Writer）是一个模块，构建在模块之上，旨在通过易于实现的 PCell 的预构建库来简化为光子集成电路设计复杂掩模的过程。 目前支持的块包括： 波导（带状、槽状和亚波长光栅） 光栅耦合器（直和聚焦） 锥度 带槽波导模式转换器 定向耦合器 绝热耦合器 螺旋结构（根据指定的波导长度自动生成） 1x2 多模干涉仪 2x2 多模干涉仪 带自动总线波导绕线的环形和圆盘谐振器 分布式布拉格反射器 马赫-曾德干涉仪 对准标记（用于光刻和电子束光刻） 金属路线 焊盘 请继续关注，更多组件即将推出！ 同时，请在查看此项目的文档。 特征 该模块的最终目标是通过扩展 gdspy 库的功能来减少生成光子集成电路掩模设计所需的时间。 用于光子集成电路的通用构

光掩模、离子注入、扩散、金属沉积、

IC Mask Design Essential Layout Techniques 中文版:北京:清华大学出版社,2006 译名: 集成电路掩模设计:基础版图技术/(美)塞因特(Saint Christopher)，塞因特(Saint Judy)著 周润德，金申美译

集成电路掩模设计---基础版图技术(翻译版) 清华大学出版社 06 （美）塞因特（Saint.J）著 周润德译 _部分1 注意！！！由于文件太大 拆分成两部分了。。。 内容简介 《集成电路掩模设计:基础版图技术》(翻译版)的译者曾在美国留学执教多年，后在清华大学微电子所任教，长期从事IC设计的研究和授课工作，作为国内IC设计领域的顶尖讲师，译笔流畅生动，既通俗易读，又保持原书风味，帮助您更加轻松愉快地掌握集成电路的掩模设计，激发您对于版图设计工作的热情！现在您可以轻轻松松，兴致盎然地学习和掌握集成电路版图设计了！《集成电路掩模设计:基础版图技术》(翻译版)作者Christopher Saint,IBM的顶尖讲师之一，以轻松幽默的文笔为读者提供了一本图文并茂、实用易读的版图设计参考书，自下而上，由浅入深地构造了设计理念，毫无保留地讲述了从最初版图设计到最终仿真的方方面面。内容覆盖了模拟电路、数字电路、标准单元、高频电路、双极型和射频集成电路的版图设计技术，讨论了版图设计中有关匹配、寄生参数、噪声、布局、验证、封装等问题及数据格式，最后还提代了两个实际的例子，CMOS放大器与双极型混频器的版图设计。 编辑推荐 《集成电路掩模设计:基础版图技术》(翻译版)编辑推荐：作为一个电路设计者，你对电路所作的每一个选择和决定都会直接影响最终的硅片产品。电路设计远远超过电路模拟器。设计的物理属性将决定电路工作的成败与否。掩模设计问题现在比以往任何时候都更加成为整个电路设计过程的一部分。你的设计只有在变成了硅芯片上的电路时才能算完成。 把设计转移到硅片上是你的职责。了解你的设计对版图方案的选择会产生什么影响是你的职责。与掩模设计人员沟通对电路的要求也是你的职责。要做到所有这些，你对掩模设计工作的了解即便不比你的掩模设计师更好一些，至少也不应当比他们逊色。

集成电路掩模设计---基础版图技术(翻译版) 清华大学出版社 06 （美）塞因特（Saint.J）著 周润德译 _部分2 注意！！！由于文件太大 拆分成两部分了。。。 内容简介 《集成电路掩模设计:基础版图技术》(翻译版)的译者曾在美国留学执教多年，后在清华大学微电子所任教，长期从事IC设计的研究和授课工作，作为国内IC设计领域的顶尖讲师，译笔流畅生动，既通俗易读，又保持原书风味，帮助您更加轻松愉快地掌握集成电路的掩模设计，激发您对于版图设计工作的热情！现在您可以轻轻松松，兴致盎然地学习和掌握集成电路版图设计了！《集成电路掩模设计:基础版图技术》(翻译版)作者Christopher Saint,IBM的顶尖讲师之一，以轻松幽默的文笔为读者提供了一本图文并茂、实用易读的版图设计参考书，自下而上，由浅入深地构造了设计理念，毫无保留地讲述了从最初版图设计到最终仿真的方方面面。内容覆盖了模拟电路、数字电路、标准单元、高频电路、双极型和射频集成电路的版图设计技术，讨论了版图设计中有关匹配、寄生参数、噪声、布局、验证、封装等问题及数据格式，最后还提代了两个实际的例子，CMOS放大器与双极型混频器的版图设计。 编辑推荐 《集成电路掩模设计:基础版图技术》(翻译版)编辑推荐：作为一个电路设计者，你对电路所作的每一个选择和决定都会直接影响最终的硅片产品。电路设计远远超过电路模拟器。设计的物理属性将决定电路工作的成败与否。掩模设计问题现在比以往任何时候都更加成为整个电路设计过程的一部分。你的设计只有在变成了硅芯片上的电路时才能算完成。 把设计转移到硅片上是你的职责。了解你的设计对版图方案的选择会产生什么影响是你的职责。与掩模设计人员沟通对电路的要求也是你的职责。要做到所有这些，你对掩模设计工作的了解即便不比你的掩模设计师更好一些，至少也不应当比他们逊色。

图像锐化是一种补偿轮廓、突出边缘信息以使图像更为清晰的处理方法。锐化的目标实质上是要增强原始图 像的高频成分。常规的锐化算法对整幅图像进行高频增强,结果呈现明显噪声。为此,在对锐化原理进行深入研究的基础 上,提出了先用边缘检测算法检出边缘,然后根据检出的边缘对图像进行高频增强的方法。实验结果表明,该方法有效地解 决了图像锐化后的噪声问题。