主要介绍了大规模集成电路制造中光刻工艺的技术现状和发展趋势。首先,在调研光刻机的研发和生产情况的基础上讨论了国内外光刻技术的现状;其次,重点分析了目前用于提高光刻机性能的各种关键技术;最后,简要介绍了下一代光刻技术的研究进展和发展方向。
2021-05-29 12:02:40
448KB
1
本资料包含荷兰光刻机厂商ASML的内部培训资料 ，包括介绍芯片的制作过程以及原理，光刻机的使用说明以及原理等等
2021-05-14 14:43:32
488.56MB
1
20210430-头豹研究院-光刻机行业2021年系列：全球光刻机行业概览.pdf
2021-05-14 13:03:19
3.85MB