本人课程做的一个PPT，如有需要，自行 下载。 主要内容: 光波导的制备通常需要两个过程： ①光波导薄膜：制作技术主要包括原子掺杂技术，淀积技术，外延生长技术和电光技术。 ②光路几何图形的微细加工：技术主要包括化学腐蚀法刻蚀和离子束刻蚀。进行刻蚀的目的：一是规定光的传输方向，让光在通道上有效通过，二是在规定的通道上加工制作不同光波导器件以便对光信号进行调制、分束、开关和探测。

SOl基片的构成如图1所示，顶层硅的厚度约为几微米，做为光波导的芯层材料；掩埋氧化层的厚度一般为0.5 gm，作为光波导的下包层，防止光场从衬底泄漏掉，所以只要氧化层的厚度大于光模的消逝场的尺寸，光就可以被有效的限制。表面一般也要淀积一层氧化层，作为上包层。 　　由于硅与二氧化硅之间大的相对折射率差（约42%），所以一般将SOl做成脊形光波导，下面我们就对SOl的脊形光波导利用有效折射率法进行较详细的分析。 　　有效折射率法的基本概念我们已经叙述过了，下面讲—下如何用有效折射率法来分析脊形光波导的传播常数。如图2所示。 　　图1  SOl光波导截面图 　　图2  有效折射率法进

OptiGrating.v4.2 是一款应用广泛的软件，模拟光波导在光栅中的应用。

光波导中，光参量放大过程传播到L处的各光波波形图数值仿真matlab代码

平板光波导在TE和TM模式下的色散曲线，通过matlab制图画出了与有效折射率有关的色散曲线

使用多域光谱配置方法的各向异性光波导全矢量模式求解器

提出了一种在非线性聚合物光波导中实现高效切连科夫倍频辐射的方法,避免了传统结构中多次反射引起的损耗,而且具有易制备和结构紧凑的优点,通过选择聚合物薄膜的厚度和折射率,实现了基频导波与倍频导波的近相位匹配。在实验中实现了转换效率1.6%W-1 cm-1,这是迄今为止在聚合物中所报道的最高值。

光波导具有结构简单,体积小,耐腐蚀,电绝缘性好,便于集成等特点。光波导对折射率、吸收以及放光过程（例如:化学发光或荧光）的变化敏感。这些变化对波导中传输的光起到了调制作用,可利用光波导的这些特性制成各类传感器。其中光波导生物化学传感器是将光波导技术与化学、生物工程技术相结合,它必将会在生物化学领域中发挥重要作用。本文综述了已经研制出的几种类型的光波导生物传感器,并对其特性进行了比较。

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利用损耗使有限耦合谐振器光波导的延迟线平坦