基于COMSOL的MPCVD装置H2低气压放电及等离子体沉积刻蚀仿真技术详解
内容概要：本文详细介绍了利用COMSOL进行MPCVD（微波等离子体化学气相沉积）装置中H2低气压放电及等离子体沉积刻蚀的仿真方法。主要内容涵盖基础配置、电磁场与等离子体模块的耦合、网格划分、求解器设置以及后处理等方面的技术要点。文中还提供了多个MATLAB代码片段，帮助读者理解和应用具体的仿真步骤。同时，文章强调了在不同气压条件下，如何调整参数以确保仿真结果的准确性，并分享了一些实用技巧和避坑指南。
适用人群：从事等离子体物理研究、MPCVD装置设计与优化的研究人员和技术人员，尤其适用于有一定COMSOL使用经验和MATLAB编程基础的用户。
使用场景及目标：①掌握MPCVD装置中H2低气压放电及等离子体沉积刻蚀的仿真流程；②提高仿真效率，减少计算时间和错误；③通过仿真优化实际工艺参数，如气压、微波功率、电场强度等，从而改善沉积和刻蚀效果。
其他说明：文章不仅提供了详细的理论解释和技术指导，还结合实际案例进行了深入剖析，使读者能够更好地将理论应用于实践。此外，文中提到的一些特殊现象（如等离子体收缩、鞘层振荡等）及其应对措施，对于解决实际问题具有重要参考价值。
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