论文研究-TCMC65nmGP与LP工艺比较 .pdf
TCMC65nmGP与LP工艺比较，李立，程旭，本文主要针对TSMC65nm工艺进行深入研究，充分比较了GP（General Purpose）和LP（Low Power）两种工艺下漏电，跨导增益和MOS开关导通电阻这三个
文件下载
评论信息
其他资源
- 232转485电路图 PCB 和原理图
- Vmware Horizon View 6.0全套组件下载地址
- SystemVerilog Assertions应用指南中文 +英文 +随书代码
- STM32G，Altium Designer，AD，封装库，IntLib
- 海量点云数据的重复点删除
- Elements of Programming （PDF 版本）
- 致远OA软加密
- 操作系统实验一: 进程调度
- 电子科大12-17年计算机复试-笔试试题C
- 最新版Fish-v323.zip
- mysql数据库的详细解析和案例
- Meanshift图像分割matlab
- VMware-VMRC-11.1.0-15913118
- GAT9112019信息安全技术日志分析产品安全技术要求.pdf
- 世界地图可编辑矢量文件
- high-speed digital design/a hnadbook of black magic(英文原版)
- simonw：https：simonwillison.net2020Jul10self-updating-profile-readme-源码
- bitcoin-0.20.1-win64-setup
- 雷达天线测试中的若干结构问题
- 极化阵列信号处理DOA及极化参数估计.rar
- android分辨率适配源码+apk包
- Decision Forests
免责申明
【只为小站】的资源来自网友分享，仅供学习研究，请务必在下载后24小时内给予删除，不得用于其他任何用途，否则后果自负。基于互联网的特殊性，【只为小站】 无法对用户传输的作品、信息、内容的权属或合法性、合规性、真实性、科学性、完整权、有效性等进行实质审查；无论 【只为小站】 经营者是否已进行审查，用户均应自行承担因其传输的作品、信息、内容而可能或已经产生的侵权或权属纠纷等法律责任。
本站所有资源不代表本站的观点或立场，基于网友分享，根据中国法律《信息网络传播权保护条例》第二十二条之规定，若资源存在侵权或相关问题请联系本站客服人员，zhiweidada#qq.com，请把#换成@，本站将给予最大的支持与配合，做到及时反馈和处理。关于更多版权及免责申明参见 版权及免责申明
本站所有资源不代表本站的观点或立场，基于网友分享，根据中国法律《信息网络传播权保护条例》第二十二条之规定，若资源存在侵权或相关问题请联系本站客服人员，zhiweidada#qq.com，请把#换成@，本站将给予最大的支持与配合，做到及时反馈和处理。关于更多版权及免责申明参见 版权及免责申明