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论文研究-TCMC65nmGP与LP工艺比较 .pdf
论文研究-TCMC65nmGP与LP工艺比较 .pdf
上传者:
39841882
|
上传时间: 2021-10-11 10:43:53
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文件大小: 566KB
|
文件类型: -
65nm工艺
TCMC65nmGP与LP工艺比较,李立,程旭,本文主要针对TSMC65nm工艺进行深入研究,充分比较了GP(General Purpose)和LP(Low Power)两种工艺下漏电,跨导增益和MOS开关导通电阻这三个
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